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전도성 고분자 패터닝 방법
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2012-12-11 -
131
- 구분
- 화학/생명공학
- 특허권자
- 한국생산기술연구원
- 출원번호
- KR2008-0131184
- 등록번호
- KR1055750
간단한 공정으로 플라스틱 기판상에 원하는 형태의 전도성 고분자 패턴을 형성할 수 있으며, 열적, 화학적 및 물리적 손상을 쉽게 받는 플렉서블 기판상에 전도성 고분자 패턴을 형성할 수 있고, 전도성 고분자, 특히 PEDOT:PSS를 패터닝함에 있어 UV를 조사하지 않아도 패터닝이 가능하도록 하는 패터닝 방법을 제시함으로써 UV에 의해 전도성 고분자가 손상되는 것을 방지할 수 있는 전도성 고분자 패터닝 방법을 제공하는 것을 목적으로 함
<전도성 고분자 패턴 방법 공정 순서도>
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